描述
用于先进工艺的光刻过滤器
PhotoKleen™ NTD滤芯设计用于侵蚀性的有机溶剂应用。
PhotoKleen™ NTD过滤器由全氟聚合物材料构成，与侵蚀性更强的光刻溶剂具有优异的化学相容性，例如醋酸正丁酯（nBA）、环己酮、二丁醚、甲苯和γ-丁内酯 。
5nm精度的PTFE滤材具有高颗粒滤留度，同时可保持低压降。
特点
• 可选4"、10"和20"长度
• 全氟聚合物结构，产生最高清洁度
• 确保金属、颗粒和有机清洁度1
优势
• 流动压差降低，从而可最大程度减少ESD和气泡形成
• 干燥运输，用于有机光刻溶剂
1 有关设备声明，请联系颇尔技术服务
规格
构成材质
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部件 |
材料2 |
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滤材 |
功能化PTFE |
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背衬和排液 |
PFA |
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内芯、网罩和端盖 |
PFA |
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O型圈 |
Kalrez3 |
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2全氟聚合物材料，不使用PFOA
3 Kalrez是杜邦公司的注册商标。
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滤除精度 |
5nm |
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过滤面积 |
ABF04：0.7m2 |
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最高工作温度 |
110°C/230°F |
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最大前向压差 |
50°C时为0.59MPa/122°F时为86psid |
典型流动特征-1厘泊流体（20℃）
类型
Filter Capsules
应用
0
订购信息
ABF [1] NTD23EH11
表1
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代码 |
标称长度（L） |
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04 |
4英寸 |
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1 |
10英寸 |
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2 |
20英寸 |
标准尺寸
分类信息
0
检查
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