PhotoKleen™ DDF过滤器总成 product photo Primary L

PhotoKleen™ DDF Filter Assembly

PhotoKleen过滤器总成是用于清洁、简单和安全更换过滤器的紧凑型膜盒总成。该过滤器总成不使用任何聚丙烯部件,因此非常适用于需要更高纯度的应用,例如过滤显影剂、溶剂和光刻胶。在系统中使用该总成可提高整体性能。XP选项可用于高级光刻工艺。 特点 • 滞留体积小 • 最高位置通气 • 最低位置排液 • 低压降 • 在洁净室环境中生产 • 少O型圈设计 • 通过XP选项最大程度地减少有机物 • XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度。 优势 • 启动更快 • 减少化学废物


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描述

PhotoKleen过滤器总成是用于清洁、简单和安全更换过滤器的紧凑型膜盒总成。该过滤器总成不使用任何聚丙烯部件,因此非常适用于需要更高纯度的应用,例如过滤显影剂、溶剂和光刻胶。在系统中使用该总成可提高整体性能。XP选项可用于高级光刻工艺。 特点 • 滞留体积小 • 最高位置通气 • 最低位置排液 • 低压降 • 在洁净室环境中生产 • 少O型圈设计 • 通过XP选项最大程度地减少有机物 • XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度。 优势 • 启动更快 • 减少化学废物

规格

 

构成材质

 

部件

材料

滤材

PE-Kleen过滤器:HDPE(高密度聚乙烯)
P尼龙过滤器:不对称尼龙6,6

背衬和排液

HDPE(高密度聚乙烯)

外壳、内芯、网罩和端盖

HDPE(高密度聚乙烯)

 

 

 

PE-Kleen过滤器

P尼龙过滤器

品级

UG2

UG5

UG001

UG003

XN2L

HXN5

AN01

ANM

AND

AN151

滤除精度

2nm

5nm

10nm

30nm

2nm

5nm

10nm

20nm

40nm

0.15μm

过滤面积(cm2

DDF1

2,600

2,500

2,500

2,200

2,900

1,900

2,500

2,500

2,500

2,500

DDF2

5,200

5,200

5,100

4,400

5,900

4,100

5,300

5,300

5,300

-

最高工作温度

30˚C/86˚F

最大工作压力

30˚C时为290kPaG/86˚F时为42psi

最大前向压差

30˚C时为290kPa/86˚F时为42psid

 

1 仅可用于DDF1结构。



尺寸

性能

典型流动特征-1厘泊(20℃)





类型

总成、滤囊

用途

过滤

应用

光刻法

订购信息

部件编号/订购信息23

DDF [1] [2] E [3]

表1

 

代码

刻度

1

小体积

2

中等体积

 

表2

 

代码

滤材

滤除精度

UG2

HDPE

2nm

UG5

HDPE

5nm

UG001

HDPE

10nm

UG003

HDPE

30nm

XN2L

尼龙6,6

2nm

HXN5

尼龙6,6

5nm

AN01

尼龙6,6

10nm

ANM

尼龙6,6

20nm

AND

尼龙6,6

40nm

AN15

尼龙6,6

0.15μm

 

表3

 

代码

接头
进口、出口/通气、排液

NP44

14英寸Pillar接头4 / 14英寸Pillar接头

FL44

14英寸喇叭口型/14英寸喇叭口型

FL64

38英寸喇叭口型/14英寸喇叭口型

 

2滤芯并非适用于所有结构,请联系您当地的颇尔代表了解产品具体的可用性。
3对于XP处理选项,在10nm/20nm滤除精度的部件编号末尾添加-XP
 
XP处理是2nm/5nm产品的标配)
4 Pillar接头是Nippon Pillar Packing包装有限公司的商标。

分类信息

半导体

检查

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