PhotoKleen™ EZD-3XL滤囊 product photo Primary L

PhotoKleen™ EZD-3XL Filter Capsules

PhotoKleen™ EZD-3XL过滤器设计用于小型分配系统,满足高级大通量跟踪系统的要求。PhotoKleen™ EZD-3XL过滤器的过滤面积是PhotoKleen™ EZD-3X过滤器的几乎两倍,可在过滤期间降低压降。可选两种滤材:不对称尼龙6,6和HDPE。天然亲水性尼龙6,6膜能够自发润湿,可减少图案化晶圆的缺陷。XP选项可用于高级光刻工艺。 • 过滤面积是PhotoKleen™ EZD-3X滤囊的2倍 • 易更换滤囊总成 • 可选两种膜材料 • 滞留体积最小,顶进/顶出流向 • 压降较低,可提高流体粘度 • 延长过滤器更换的间隔时间,缩短工具故障时间 • 提供适用于目标应用的滤膜 • XP选项可最大程度减少有机可提取物,从而实现快速启动并减少化学废物 • XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度。


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描述

PhotoKleen™ EZD-3XL过滤器设计用于小型分配系统,满足高级大通量跟踪系统的要求。PhotoKleen™ EZD-3XL过滤器的过滤面积是PhotoKleen™ EZD-3X过滤器的几乎两倍,可在过滤期间降低压降。可选两种滤材:不对称尼龙6,6和HDPE。天然亲水性尼龙6,6膜能够自发润湿,可减少图案化晶圆的缺陷。XP选项可用于高级光刻工艺。 • 过滤面积是PhotoKleen™ EZD-3X滤囊的2倍 • 易更换滤囊总成 • 可选两种膜材料 • 滞留体积最小,顶进/顶出流向 • 压降较低,可提高流体粘度 • 延长过滤器更换的间隔时间,缩短工具故障时间 • 提供适用于目标应用的滤膜 • XP选项可最大程度减少有机可提取物,从而实现快速启动并减少化学废物 • XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度。

规格

构成材质

 

部件

材料

滤材

P-尼龙:亲水性不对称尼龙6、6
PE-Kleen:高密度聚乙烯(HDPE)

背衬和排液

高密度聚乙烯(HDPE)

内芯、网罩和端盖

高密度聚乙烯(HDPE)

滤壳

高密度聚乙烯(HDPE)

 O型圈

 Kalrez1

 

 

 

滤除精度

P-尼龙:2nm、5nm、10nm、20nm和40nm
PE-Kleen:2nm、5nm、10nm、30nm和50nm

过滤面积

P-尼龙:2nm:3,200cm2
                   5nm:2,100cm2
                   10、20、40nm:2,500cm2
PE-Kleen:2、5、10、30nm:2,800cm2
                   50nm:2,900 cm2

最大前向压差

P-尼龙:20°C时为0.27MPa/60°F时为39psid
PE-Kleen:30°C时为0.29MPa/86°F时为42psid

最高工作温度

30°C/86°F

最大工作压力

30°C时为0.29MPaG/86°F时为42psig

 

1 Kalrez是DuPont高性能弹性体公司的注册商标。



尺寸2


 
2 PhotoKleen™ EZD-3XL滤囊需要PhotoKleen EZD-3XL头部双联管路组件

性能

典型流动特征-1厘泊流体(20℃)


类型

总成、滤囊

用途

过滤

应用

光刻法

订购信息

PHD13 [1] EH11B3

表1

 

代码

滤材

滤除精度

XN2L4

P-尼龙

不对称6,6

2nm

HXN54

不对称尼龙6,6

5nm

AN01

不对称尼龙6,6

10nm

ANM

不对称尼龙6,6

20nm

AND

不对称尼龙6,6

40nm

UG2

PE-Kleen

HDPE

2nm

UG5

HDPE

5nm

UG001

HDPE

10nm

UG003

HDPE

30nm

 UG005

 HDPE

 50nm

 

3 对于XP处理选项,在10nm/20nm滤除精度的部件编号末尾添加-XP
4 XP处理在2nm/5nm滤除精度的标配。

分类信息

半导体

检查

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