描述
PE-Kleen过滤器组合聚乙烯薄膜技术的最新进展与颇尔独特的月牙形Ultipleat®过滤器技术。设计并制造出半导体工业所需的具有优异颗粒滤除特性的滤芯。
PE-Kleen过滤器专门设计用于过滤超高纯度化学品。建议用于抗反射涂层相关的应用以及粗滤248nm和193nm光刻胶。XP选项可用于高级光刻工艺。
特点
• 优异的凝胶滤除特性
• 大流量
• 低溶出
• 100%通过完整性测试
• 在洁净室中生产
• 通过XP选项最大程度地减少有机物
• XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度。
规格
构成材质
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部件 |
材料 |
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滤材 |
HDPE1 |
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背衬和排液 |
HDPE |
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内芯、网罩和端盖 |
HDPE |
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O型圈选项 |
EPR、FEP包封氟橡胶、Kalrez2、Chemraz3 |
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1高密度聚乙烯
2Kalrez是DuPont高性能弹性体公司的商标。
3Chemraz是Greene, Tweed & Co.公司的商标。
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ABD过滤器 |
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滤除精度 |
2nm |
5nm |
10nm |
30nm |
0.05μm |
1.0μm |
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过滤面积 |
1.3 m2 |
1.3 m2 |
1.3 m2 |
1.1 m2 |
1.4 m2 |
1.1 m2 |
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最高工作温度 |
50˚C/122˚F |
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最大前向压差 |
340kPa@40˚C/40psid@140˚F |
|||||
性能
压降及液体流量（水、20°C）4
4非水液体的压差应乘以流体粘度（厘泊）。
类型
滤筒和滤芯
用途
过滤
应用
光刻法、溶剂过滤
订购信息
部件编号/订购信息5、6
ABD [1] UG [2] [3] E [4]
表1
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代码 |
标称长度 |
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1 |
254/10 |
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2 |
508/20 |
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3 |
762/30 |
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表2
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代码 |
滤除精度 |
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2 |
2nm |
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5 |
5nm |
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001 |
10nm |
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003 |
30nm |
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005 |
0.05μm |
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100 |
1.0μm |
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表3
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代码 |
结构 |
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3 |
222 O型圈：开端、平面封闭端 |
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7 |
226 O型圈：开端、封闭端有翼 |
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8 |
222 O型圈：开端、封闭端有翼 |
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表4
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代码 |
O型圈材料 |
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J |
EPR |
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H1 |
包封FEP的氟橡胶 |
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H11 |
Kalrez |
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H12 |
Chemraz |
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6对于XP选项，在2-10nm滤除精度和10-20英寸部件编号的末尾添加-XP。
分类信息
半导体、锂离子电池
检查
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