描述
PhotoKleen™ EZD-3X过滤器设计用于占空用空间最少的小型分配系统。PhotoKleen™ EZD-3XL过滤器的过滤面积是PhotoKleen™ EZD-3X过滤器的几乎两倍，可在过滤期间降低压降。因此，过滤期间压降减小，或在相同压降下实现更精细的过滤效果。可选两种滤材类型：不对称尼龙6,6和HDPE。天然亲水性尼龙6,6膜能够自发润湿，结果显示其极性可减少图案化晶圆的缺陷。XP选项可用于高级光刻工艺。
特性和优势
• 相同尺寸滤囊产生2倍的过滤面积（参见PhotoKleen™ EZD-3过滤器）
• 易更换式过滤总成
• 可选两种膜材料
• 滞留体积最小，顶进/顶出流向，侧面导管用于层流灌充
• 压降较低，可提高流体粘度
• 延长过滤器更换间隔时间，缩短工具故障时间
• 优化用于目标应用的滤材选择
• XP处理可最大程度减少将有机可提取物，从而实现快速启动并减少化学废物
• XP选项可保证低有机物、金属和颗粒物在多数高级工艺中的清洁度
PhotoKleen™ EZD-3X过滤器设计用于配合装入所有PhotoKleen™ EZD-3头部双联管路组件
规格
构成材质
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部件 |
材料 |
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滤材 |
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背衬和排液 |
高密度聚乙烯(HDPE) |
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内芯、网罩和端盖 |
高密度聚乙烯(HDPE) |
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滤壳 |
高密度聚乙烯(HDPE) |
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O型圈 |
Kalrez*1 |
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1 Kalrez是杜邦公司的注册商标。
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滤除精度 |
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过滤面积 |
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最大前向压差 |
P-尼龙：20°C时为0.27MPa/60°F时为39psid |
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最高工作温度 |
30°C/86°F |
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最大工作压力 |
30°C时为0.29MPaG/86°F时为42psig |
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尺寸2
*2 PhotoKleen™ EZD-3头部双联管路组件可用于PhotoKleen™ EZD-3X囊式过滤器。
性能
典型流动特征-1厘泊流体（20℃）
类型
总成、滤囊
用途
过滤
应用
光刻法
订购信息
部件编号/订购信息3
PHD12 [1] EH11B
表1
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代码 |
滤材 |
滤除精度 |
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XN2L4 |
P-尼龙 |
不对称尼龙6,6 |
2nm |
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HXN54 |
不对称尼龙6,6 |
5nm |
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AN01 |
不对称尼龙6,6 |
10nm |
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ANM |
不对称尼龙6,6 |
20nm |
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AND |
不对称尼龙6,6 |
40nm |
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AN15 |
不对称尼龙6,6 |
0.15μm |
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UG2 |
PE-Kleen |
HDPE |
2nm |
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UG5 |
HDPE |
5nm |
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UG001 |
HDPE |
10nm |
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UG003 |
HDPE |
30nm |
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UG005 |
HDPE |
50nm |
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*3 对于XP处理选项，在10nm/20nm滤除精度的部件编号末尾添加-XP。
*4 XP处理在2nm/5nm滤除精度的标配。
分类信息
半导体
检查
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