Ultipleat® G2 SP DR过滤器和Ultipleat® G2 SP DR KC总成 product photo Primary L

Ultipleat® G2 SP DR Filters and Ultipleat® G2 SP DR KC Assemblies

颇尔Ultipleat G2 SP DR过滤器专门设计用于大流量和提高关键表面处理化学浴中的颗粒清除,例如HF和BOE。SP DR过滤器采用高不对称薄膜结构,该结构使用颇尔专有膜建模技术(MMT)开发。 H滤膜的孔径分布在其深度范围内从微孔到纳米微孔均匀转变,产生一种新型的应用特定膜形态,设计用于深层滤除小至2纳米的亚微米颗粒。这种滤除不存在传统薄膜微孔结构的流量约束限制。 2纳米、5纳米和10纳米Ultipleat G2 SP DR过滤器使用原生聚芳砜材料,其表面能比典型表面改性的不去湿PTFE薄膜高40%以上。 Ultipleat G2 SP DR KC总成是完全一次性的过滤器装置。它们理想用于过滤蚀刻剂、低温去膜化学品和去离子水。 • MMT改进双滤除颗粒 • 优异的HF过滤性能 • 增加流量和使用寿命 • 超细微孔膜基材 • 高表面能薄膜,最大程度地减少微泡形成 • 工具验证更快,从而降低拥有成本 • 使用KC一次性总成,避免过程污染


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描述

颇尔Ultipleat G2 SP DR过滤器专门设计用于大流量和提高关键表面处理化学浴中的颗粒清除,例如HF和BOE。SP DR过滤器采用高不对称薄膜结构,该结构使用颇尔专有膜建模技术(MMT)开发。 H滤膜的孔径分布在其深度范围内从微孔到纳米微孔均匀转变,产生一种新型的应用特定膜形态,设计用于深层滤除小至2纳米的亚微米颗粒。这种滤除不存在传统薄膜微孔结构的流量约束限制。 2纳米、5纳米和10纳米Ultipleat G2 SP DR过滤器使用原生聚芳砜材料,其表面能比典型表面改性的不去湿PTFE薄膜高40%以上。 Ultipleat G2 SP DR KC总成是完全一次性的过滤器装置。它们理想用于过滤蚀刻剂、低温去膜化学品和去离子水。 • MMT改进双滤除颗粒 • 优异的HF过滤性能 • 增加流量和使用寿命 • 超细微孔膜基材 • 高表面能薄膜,最大程度地减少微泡形成 • 工具验证更快,从而降低拥有成本 • 使用KC一次性总成,避免过程污染

规格

构成材质

 

部件

材料

滤材

聚芳砜

背衬和排液

聚乙烯

内芯、网罩和端盖

聚乙烯

密封方法

熔体密封

壳体

PFA

O型圈选项

包封FEP的氟橡胶

 

*全氟聚合物材料,不使用PFOA。

 

产品名称

Ultipleat G2 SP DR KC总成

Ultipleat G2 SP DR过滤器

滤除精度

30nm

10nm

5nm

2nm

30nm

10nm

5nm

2nm

滤膜可润湿性

亲水性

疏水性

亲水性

疏水性

过滤面积

1.9m2/20.6ft2

1.4m2/15.0ft2

1.9m2/20.6ft2

1.4m2/15.0ft2

最高工作温度

70°C/158°F

最大工作压力

0.49 MPaG / 71 psig ‹ 25 °C / 77 °F
0.34 MPaG / 49 psig ‹ 70 °C / 158 °F

最大前向压差

70°C/158°F时为0.1巴/15psid

 


尺寸(标称)


性能

压降与介质流量1(20°C的水)




1额定流量对于粘度与水不同的介质,将压降乘以粘度(厘泊)

类型

总成、滤囊、滤筒和滤芯

用途

过滤

应用

超纯水、湿法蚀刻和清洗

订购信息

部件编号/订购信息4

Ultipleat G2 SP DR KC总成

LDF [1] 1[2] [3] E [4] [5]

表1

 

代码

流量

DT

T型流

DL

L型流

GN

直列式

 

表2

 

代码

滤除精度

HSAH

2nm

HSSH

5nm

HSVH

10nm

HSQ

30nm

 

表3

 

代码

进口/出口

通气口/排液口

Memo

头端

滤筒端

128

¾英寸公头

½英寸公头

½英寸公头

T型流/L型流

164

1英寸公头

¼英寸公头

¼英寸公头

直列式

168

1英寸公头

½英寸公头

½英寸公头

T型流

 

表4

 

代码

接头

2

Super Pillar型(日本Pillar)2

51

喇叭口型

71

Super Pillar 300P系列(日本Pillar)

 

表5

 

代码

预湿选项

范围

干燥

仅30nm

-K6

干燥、低金属溶出3

仅30nm

-K13C

预湿过滤器(包装在去离子水中)、低金属可溶出物3

5nm、10nm

-K13D

预湿过滤器(包装在去离子水中)、低金属可溶出物3

2nm

 

Ultipleat G2 SP DR过滤器

ABDG [1] [2] 3EH1 [3]

表1

 

代码

长度(标称):

英寸

mm

1

10

225

2

20

468

 

表2

 

代码

滤除精度

HSAH

2nm

HSSH

5nm

HSVH

10nm

HSQ

30nm

 

表3

 

代码

预湿选项

范围

干燥

可用

-K3

预湿过滤器(包装在去离子水中)

5nm、10nm

-K6

干燥、低金属溶出物3

30nm

-K13C

预湿过滤器(包装在去离子水中)、低金属可溶出物3

5nm、10nm

-K13D

预湿过滤器(包装在去离子水中)、低金属可溶出物3

2nm

 

分类信息

半导体、半导体

检查

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